Objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio y aluminio para Indonesia

A principios de noviembre, entregamos los objetivos de pulverización catódica de aleación de aluminio y titanio solicitados por el cliente en el punto de recepción del destinatario de forma segura y rápida, y la firmeza y hermeticidad del embalaje están garantizadas.La otra parte está muy satisfecha con la calidad y las especificaciones de nuestros productos y está dispuesta a promocionar nuestros productos y establecer una cooperación a largo plazo con nuestra empresa.Para aprovechar la oportunidad de convertir nuevos clientes en clientes antiguos, la propia actitud de servicio, la inspección de la calidad del producto y el conocimiento técnico profesional deben perfeccionarse continuamente.

El objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio y aluminio generalmente se produce mediante el proceso de prensado isostático en caliente, que tiene un tamaño de grano más pequeño y una estructura interna microscópica más uniforme, lo que puede ayudar a los clientes a obtener recubrimientos de película delgada de alta pureza y tasas de erosión constantes, y generalmente se utiliza para Recubrimiento de herramientas de hardware, recubrimiento decorativo, recubrimiento de pantalla plana, procesamiento de PVD y CVD, componentes de semiconductores y varias máquinas de pulverización catódica de magnetrón y máquinas de recubrimiento iónico.Los objetivos de pulverización catódica de aleación de titanio y aluminio proporcionados por nuestra empresa tienen las ventajas de alta calidad, alta pureza, estructura uniforme, larga vida útil, buena resistencia a la corrosión, alta conductividad térmica y precio competitivo.